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化學(xué)機械拋光機時間:2024-11-28型號:CP-6廠商性質(zhì):經(jīng)銷商瀏覽量:7989
RTEC化學(xué)機械拋光機:先進的CMP測試儀CP-6允許以*的方式研究和表征CMP工藝。 除了拋光晶圓和基板外,測試儀還配有在線表面輪廓儀。 這種組合提供了有關(guān)表面,摩擦,磨損等變化的原因和方式的信息。 測試儀還可以測量幾個內(nèi)聯(lián)參數(shù),如摩擦力,表面粗糙度,磨損量等,以便詳細了解過程。
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化學(xué)機械拋光機時間:2024-11-28型號:Rpo-6型廠商性質(zhì):經(jīng)銷商瀏覽量:9699
從小規(guī)模的實驗室經(jīng)濟角度出發(fā),Rpo-6型化學(xué)機械拋光機是用來研發(fā)CMP工藝流程、拋光晶片的替換選擇,它的高度靈活性可以對任何材料進行拋光。 原位摩擦和拋光墊磨損測量 可替換探頭達到6英寸晶片 標(biāo)準(zhǔn)的工藝流程&消耗品的運載
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