產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Laser MBE具備PLD和傳統(tǒng)MBE的特點(diǎn)，對(duì)薄膜的生長速率進(jìn)行精確（原子層級(jí)別）控制。設(shè)備特點(diǎn)是在MBE系統(tǒng)上增加激光燒蝕工藝，系統(tǒng)可以生長包括高熔點(diǎn)陶瓷以及多元素固體材料等各種材料。SVT有20年的MBE設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn)，我們擅于通過在線監(jiān)控薄膜生長來提高薄膜質(zhì)量。所采用的在線監(jiān)控儀器包括：溫度測(cè)量?jī)x、厚度測(cè)量?jī)x、RHEED、束流監(jiān)控儀等。如果您想了解更多這方面的信息，請(qǐng)。

應(yīng)用

氧化物半導(dǎo)體、高溫超導(dǎo)材料、光學(xué)晶體材料、電光學(xué)薄膜、鐵電以及鐵磁材料等

標(biāo)準(zhǔn)性能

● 超高真空（本底壓強(qiáng)<1E-10 Torr）

● 集成多種類型源，包括：

- RF等離子體源

- 熱蒸發(fā)源

- 電子束蒸發(fā)源

- 臭氧傳送系統(tǒng)

● 先進(jìn)的在線監(jiān)控儀（可選）

- 原子吸收束流監(jiān)控儀

- RHEED

- 溫度以及厚度測(cè)量?jī)x

● 6個(gè)可旋轉(zhuǎn)PLD靶

● 高功率準(zhǔn)分子激光器

● 提供合適的泵抽組合

● 多種腔室配置以滿足您的需求

● 培訓(xùn)以及服務(wù)支持

技術(shù)參數(shù)

Nitride Systems
Oxide Systems
Silicon Systems
Metal Organic Systems
Generic III-V and II-VI Systems
Compact MBE System (pdf brochure)
Dual Chamber MBE System (pdf brochure)